2025年5月15日-17日，由浙江大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院主辦、浙江省材料研究學(xué)會(huì)協(xié)辦的第七屆材料微結(jié)構(gòu)與性能學(xué)術(shù)會(huì)議在杭州成功舉辦。本屆會(huì)議聚焦 “材料顯微結(jié)構(gòu)、電池與催化、光電材料與器件、材料計(jì)算與人工智能" 四大核心領(lǐng)域，吸引了來自國內(nèi)外高校、科研院所及企業(yè)的千余名專家學(xué)者共襄盛舉。

  CIF攜等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)參加驚艷亮相！深度探討“材料顯微結(jié)構(gòu)、電池與催化、光電材料與器件、材料計(jì)算與人工智能"等專題中的熱點(diǎn)、重點(diǎn)、難點(diǎn)和發(fā)展趨勢等問題。交流相關(guān)研究成果與學(xué)術(shù)思想，產(chǎn)學(xué)研等前沿應(yīng)用，促進(jìn)材料學(xué)科建設(shè)與人才培養(yǎng)。

  在本次展會(huì)上，CIF展示的等離子清洗機(jī)采用先進(jìn)的等離子體技術(shù)，能夠有效去除材料表面的污染物，顯著提高工件表面的親水性。該設(shè)備在微電子、半導(dǎo)體、新能源等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用，為行業(yè)提供了高效、環(huán)保的清洗解決方案。

  紫外臭氧清洗機(jī)同樣備受關(guān)注。它利用紫外線和臭氧的協(xié)同作用，對材料表面進(jìn)行深度清潔，可有效去除光刻膠殘留和有機(jī)物污染，特別適用于對表面潔凈度要求的微電子制造和光學(xué)器件生產(chǎn)等行業(yè)。

  勻膠機(jī)和烤膠機(jī)也展現(xiàn)出性能。勻膠機(jī)能夠精確控制涂覆厚度，確保材料表面均勻覆蓋，為后續(xù)工藝提供穩(wěn)定基礎(chǔ)?？灸z機(jī)則具備快速升溫、精準(zhǔn)控溫等特點(diǎn)，可滿足不同材料和工藝的烘烤需求，廣泛應(yīng)用于芯片制造、印刷電路板等領(lǐng)域。

  展會(huì)期間，CIF的展位吸引了大量參觀者駐足交流。團(tuán)隊(duì)與參觀者積極互動(dòng)，分享技術(shù)成果和應(yīng)用案例，深入了解客戶需求，為進(jìn)一步優(yōu)化產(chǎn)品和服務(wù)提供依據(jù)。

  此次參展，先進(jìn)設(shè)備的展示不僅體現(xiàn)了材料表面處理領(lǐng)域的深厚技術(shù)積累，更彰顯了創(chuàng)新能力。未來，CIF將繼續(xù)秉持創(chuàng)新精神，不斷提升產(chǎn)品性能，拓展應(yīng)用領(lǐng)域，為推動(dòng)材料

科學(xué)與工程的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。